Similar presentations:
Дислокации. Механизмы размножения и движения дислокаций
1. Физика реального кристалла
12. Откуда берутся дислокации?Механизмы размножения и движения
дислокаций.
Профессор Б.И.Островский
[email protected]
2.
Необходимо понять:1. Почему в кристаллах изначально
присутствуют дислокации?
2. Почему дислокации размножаются при
напряжениях много меньших
теоретического порога текучести ?
3. Откуда берутся дислокации?
4.
5.
6.
Дислокации несоответствия7.
Гетерогенное зарождение дислокацийпод действием источника («концентратора»)
напряжений
Отпечаток
индентора!
8.
Определение способности кристаллак пластической деформации
9.
Vd = l/ t10.
Избирательное травление11.
12.
Облучение поверхности быстрыми частицамиСТМ реконструкция
Oscar Rodríguez de la Fuente, Ph.D. Thesis, UCM
13.
14.
Эффекты механических напряженийпри гетероэпитаксии
Дислокации несоответствия
Сохранение объема
элементарной ячейки
= (b-a)/a
15.
Несоответствие решеток16.
d = b/17.
E ~ 2ED ~
ED ~ N ~ 1/d ~
18.
19.
20.
21.
Механизмы размножениядислокаций
22.
23.
Сила, действующая на единицу длины дислокацииСила Пича - Келлера
Gj =bi ij
вектор
Сила всегда направлена
перпендикулярно линии
дислокации
24.
Линейное натяжение дислокаций/L =
/L =
Сила, действующая
на концы линии
Линейное натяжение
стремится уменьшить
длину дислокационной
линии
25.
Изгиб линии дислокацииТаким образом, для того, чтобы изогнуть дислокацию
в кривую с эффективным радиусом R, необходимо
приложить к образцу напряжение:
= Gb/R
R = Gb/
26.
ИсточникФранка - Рида
процесс повторяется
много раз
27.
Дислокационная сетка (сетка Франка)28.
= b/G
c b/l
29.
b/lКритическое напряжение,
при котором работает
источник
c b/l
c 10-3
b
c P
Механизм Франка - Рида. Стрелки показывают направление обхода
линии дислокации; b - вектор Бюргерса.
30.
31.
b32.
33.
34.
35.
36.
Другие источники дислокаций37.
38.
39.
40.
c106 Н/м2
41.
Призматические дислокацииЕсли образуется диск достаточно большого размера,
то ему энергетически выгодно деформироваться с
образованием дислокационной петли
42.
Образование дислокаций при ростекристаллов из расплава
Процессы идут в следующей последовательности:
1. Образование большого количества равновесных вакансий
вблизи температуры плавления.
2. Коалесценция избыточных вакансий в областях кристалла,
где температура понижена относительно средней вследствие
температурных градиентов. Дальнейшее образование
призматических дислокационных петель – первичные дислокации.
3. Первичные дислокации являются источниками Франка-Рида и
происходит размножение дислокаций под действием
температурных напряжений, превышающих критические
напряжения размножений дислокаций c .