Similar presentations:
Компоненты СВЧ
1. КОМПОНЕНТЫ СВЧ
12. Особенности волн СВЧ диапазона
ОСОБЕННОСТИ ВОЛН СВЧ ДИАПАЗОНАРазмеры аппаратуры соизмеримы с длиноий волны
на сверхвысоких частотах
Волны СВЧ диапазона обладают квазиоптическими
своий ствами
Волны СВЧ диапазона беспрепятственно проникают
через ионизированные слои, окружающие Землю, и
слои атмосферы
2
3. Классификация частотных диапазонов
КЛАССИФИКАЦИЯ ЧАСТОТНЫХДИАПАЗОНОВ
Частота (ГГц)
Название
0,3―3
Ультравысокие частоты(УВЧ)
(дециметровые)
3―30
Сверхвысокие частоты(СВЧ)
(сантиметровые)
30―300
Краий невысокие частоты(КВЧ)
(милиметровые)
3
4. Классификация частотных диапазонов
КЛАССИФИКАЦИЯ ЧАСТОТНЫХДИАПАЗОНОВ
Частота (ГГц)
Название
0,4―2,7
L
2,7―4
S
4―8
C
8―12
X
12―18
Ku
18―26
K
26―40
Ka
>40
mm wave
4
5. Система связи
СИСТЕМА СВЯЗИ5
6. Структурная схема передатчика радиорелейной системы связи
СТРУКТУРНАЯ СХЕМА ПЕРЕДАТЧИКАРАДИОРЕЛЕЙНОЙ СИСТЕМЫ СВЯЗИ
6
7. Структурная схема передатчика земной станции спутниковой системы связи (ССС)
СТРУКТУРНАЯ СХЕМА ПЕРЕДАТЧИКАЗЕМНОЙ СТАНЦИИ СПУТНИКОВОЙ
СИСТЕМЫ СВЯЗИ (ССС)
7
8. ПРИЕМНЫЙ И ПЕРЕДАЮЩИЙ МОДУЛИ АФАР
а) передающиий модульб) приеё мныий модуль
8
9. Структурная схема передвижной системы радиосвязи
СТРУКТУРНАЯ СХЕМА ПЕРЕДВИЖНОЙСИСТЕМЫ РАДИОСВЯЗИ
9
10. СТРУКТУРНАЯ СХЕМА АДАПТЕРА WI-FI
1011. Классификация компонентов СВЧ
КЛАССИФИКАЦИЯ КОМПОНЕНТОВ СВЧПо типу активноий среды:
вакуумные
твердотельные
Твердотельные
ИС
Транзисторы
Диоды
11
12. Классификация транзисторов
КЛАССИФИКАЦИЯ ТРАНЗИСТОРОВ12
13. Классификация транзисторов по принципу работы
КЛАССИФИКАЦИЯ ТРАНЗИСТОРОВ ПОПРИНЦИПУ РАБОТЫ
Транзисторы
Полевые
Биполярные
n-p-n
p-n-p
МДП
ПТ с
барьером
Шоттки
13
14. Классификация диодов по функциональному назначению
ДиодыДетекторные и
смесительные
Управляющие
Генераторноусилительные
14
15. Классификация детекторных и смесительных диодов
КЛАССИФИКАЦИЯ ДЕТЕКТОРНЫХ ИСМЕСИТЕЛЬНЫХ ДИОДОВ
Детекторные и
смесительные
диоды
Диоды с
точечным
контактом
Диоды с
p-n
переходом
Диоды
Шоттки
15
16. Классификация генераторно-усилительных диодов
Генераторноусилительныедиоды
Лавиннопролетныий
диод (ЛПД)
Диод Ганна
16
17. Классификация управляющих диодов
Управляющиедиоды
p-i-n диоды
Варакторы и
варикапы
17
18. Интегральные схемы
ИНТЕГРАЛЬНЫЕ СХЕМЫИС
МШУ
ФВ
УМ
Фильтр
ГУН
??? – ??????????? ?????????
?? – ?????????????
УМ – усилитель мощности
??? – ?????????, ??????????? ???????????
?? – ?????????
??? – ??????????
? – ?????????????
СМ
Атт
П
18
19. ХАРАКТЕРИСТИКИ ИС ДЛЯ X- И К- ДИАПАЗОНОВ
ХАРАКТЕРИСТИКИ ИС ДЛЯ X- И КДИАПАЗОНОВТИП ИС
УМ
МШУ
ФВ
Атт
Параметры
Х-диапазон
К-диапазон
Вых. мощность
7―12 Вт
2―4 Вт
К-т усиления
6―8 дБ
5―7 дБ
КПД
35―45%
25―35%
К-т усиления
8―9 дБ
7―8 дБ
К-т шума
0,8―1,5 дБ
2―2,5 дБ
Ошибка фазы
2―4о
2―4о
Потери
3―7 дБ
3―7 дБ
Диапазон
регулировки
32―64 дБ
32―64 дБ
19
20. Классификация электровакуумных приборов
КЛАССИФИКАЦИЯ ЭЛЕКТРОВАКУУМНЫХПРИБОРОВ
Электровакуумные приборы:
По характеру энергообмена
◦ Типа O (преобразование кинетическоий энергии
электронов в энергию СВЧ поля)
◦ Типа М (преобразование потенциальноий энергии
электронов в энергию СВЧ поля)
По продолжительности взаимодеий ствия электронов с
СВЧ полем
◦ Кратковременное (клистроны)
◦ Длительное (лампы бегущеий волны (ЛБВ) и лампы
обратноий волны (ЛОВ))
20
21. Линии передачи
ЛИНИИ ПЕРЕДАЧИ21
22. Типы линий передачи
ТИПЫ ЛИНИЙ ПЕРЕДАЧИЛинии передачи
Коаксиальн
ые линии
Прямоуголь
ные
волноводы
Микрополо
сковые
линии
(МПЛ)
22
23. Коаксиальная линия
КОАКСИАЛЬНАЯ ЛИНИЯОсновноий тип волны - ТЕМ
Волновое сопротивление:
Длина волны:
Л 0 / 1/ 2
D
B 60 ln / 1/ 2
d
23
24. Прямоугольный волновод
ПРЯМОУГОЛЬНЫЙ ВОЛНОВОДСтруктура поля для
волны основного
типа Н10
Волновое сопротивление:
0
Длина волны: Л
1 0
кр
0
120 b
B
1
a
кр
2
2
Критическая длина волны:
кр 2a
Волна не распространяется по волноводу, если ее длина
больше критической
24
25. Несимметричная микрополосковая линия
НЕСИММЕТРИЧНАЯ МИКРОПОЛОСКОВАЯЛИНИЯ
основной тип
волны – квази ТЕМ
Длина волны: Л 0 / эфф
эфф
1
2
1/ 2
1
2 1 10
h
W
С ростом частоты изменяется εэфф . Такое явление
называют дисперсией.
25
26. Элементы СВЧ тракта
ЭЛЕМЕНТЫ СВЧ ТРАКТА26
27. Классификация по локализации электромагнитного поля в элементе
КЛАССИФИКАЦИЯ ПО ЛОКАЛИЗАЦИИЭЛЕКТРОМАГНИТНОГО ПОЛЯ В ЭЛЕМЕНТЕ
Элементы СВЧ
тракта
Элементы с
сосредоточен
ными
параметрами
Элементы с
распределеё н
ными
параметрами
27
28. Особенности элементов с сосредоточенными и распределенными параметрами
ОСОБЕННОСТИ ЭЛЕМЕНТОВ ССОСРЕДОТОЧЕННЫМИ И
РАСПРЕДЕЛЕННЫМИ ПАРАМЕТРАМИ
Элементы с сосредоточенными параметрами:
характерно наличие пространственного разделения
электрического и магнитного полеий
Размеры элементов много меньше длины волны lэ <<λ
Элементы с распределеё нными параметрами:
характерно отсутствие пространственного
разделения электрического и магнитного полеий , то
есть в любоий точке может присутствовать
электрическое и магнитное поле
Размеры элементов соизмеримы с длиноий волны lэ ≥ λ
28
29. Элементы с распределенными параметрами (режим короткого замыкания)
ЭЛЕМЕНТЫ С РАСПРЕДЕЛЕННЫМИПАРАМЕТРАМИ (РЕЖИМ КОРОТКОГО
ЗАМЫКАНИЯ)
Режим К.З.:
z вх.кз .
2 l
j B tg
B
29
30. ЭЛЕМЕНТЫ С РАСПРЕДЕЛЕННЫМИ ПАРАМЕТРАМИ (РЕЖИМ КОРОТКОГО ЗАМЫКАНИЯ)
Режим К.З.:xвх.кз .
2 l
B tg
B
Расчет индуктивности
2 l
L B tg
B
2 l
B tg
B
L
30
31. Элементы с распределенными параметрами (режим холостого хода)
ЭЛЕМЕНТЫ С РАСПРЕДЕЛЕННЫМИПАРАМЕТРАМИ (РЕЖИМ ХОЛОСТОГО ХОДА)
Режим Х.Х.:
z вх. x. x.
2 l
j B ctg
B
31
32. Элементы с распределенными параметрами (режим холостого хода)
ЭЛЕМЕНТЫ С РАСПРЕДЕЛЕННЫМИПАРАМЕТРАМИ (РЕЖИМ ХОЛОСТОГО ХОДА)
Режим Х.Х.:
xвх. X . X .
2 l
B ctg
B
Расчет емкости:
1
2 l
B ctg
C
B
C
1
2 l
B ctg
B
32
33. Элементы с сосредоточенными параметрами
ЭЛЕМЕНТЫ С СОСРЕДОТОЧЕННЫМИПАРАМЕТРАМИ
1. Высокоомныий отрезок линии:
2. Одновитковая катушка:
33
34. Элементы с сосредоточенными параметрами
ЭЛЕМЕНТЫ С СОСРЕДОТОЧЕННЫМИПАРАМЕТРАМИ
3. Меандр:
4. Спираль:
34
35. Элементы с сосредоточенными параметрами
ЭЛЕМЕНТЫ С СОСРЕДОТОЧЕННЫМИПАРАМЕТРАМИ
5. Пластинчатая ёмкость:
C
0 S
d
где S – площадь перекрытия
пластин, d – толщина
диэлектрика.
6. Зазор:
C 4пФ
35
36. Элементы с сосредоточенными параметрами
ЭЛЕМЕНТЫ С СОСРЕДОТОЧЕННЫМИПАРАМЕТРАМИ
7. Гребенчатая емкость:
С ( 1) 0 l 2 A1 ( N 1) A2
0.25
0.439
h t
A1 0.614
s h
0.775t
A2
0.408
(2 N 1)(t s )
где N – число секциий , h
– толщина подложки, С
– в пФ/ед. длины.
36
37. Микрополосковые резонаторы
МИКРОПОЛОСКОВЫЕ РЕЗОНАТОРЫ37
38. Микрополосковые резонаторы
МИКРОПОЛОСКОВЫЕ РЕЗОНАТОРЫС
33,3
l1
1
2
L
l2
30
C – в пФ, L – в нГн, l – в см, ρ – в Ом
38
39. СВЧ схема
Принципиальная схема:Топология схемы
39
40. транзисторы СВЧ диапазона
ТРАНЗИСТОРЫ СВЧДИАПАЗОНА
40
41. В основе работы СВЧ транзисторов лежат те же принципы, что и в работе НЧ транзисторов Особенности СВЧ транзисторов
В ОСНОВЕ РАБОТЫ СВЧ ТРАНЗИСТОРОВ ЛЕЖАТ ТЕ ЖЕПРИНЦИПЫ, ЧТО И В РАБОТЕ НЧ ТРАНЗИСТОРОВ
ОСОБЕННОСТИ СВЧ ТРАНЗИСТОРОВ
1.
Ограничение рабочеий частоты транзистора
временем переноса носителеий через транзистор
2.
Ограничение рабочеий частоты транзистора,
обусловленное скоростью изменения заряда,
накопленного в транзисторе
3.
Влияние на рабочую частоту транзистора
конструкции выводов транзистора и их
паразитных параметров
41
42. Структура биполярного транзистора
СТРУКТУРА БИПОЛЯРНОГО ТРАНЗИСТОРА42
43.
СВЧ биполярные транзисторы отличаются от низкочастотныхпрежде всего размерами активных областеий , которые
характеризуются шириноий эмиттерноий полоски lэ и толщиноий
базы lб).
Современная технология позволяет получить эмиттерные
полоски шириноий lэ меньше 0,1 мкм и толщину базы lб не
сколько десятков нанометров. Наличие сверхтонкой базы
является одной из особенностей транзисторов СВЧ.
Для более мощных СВЧ-транзисторов используется
объединение в одном кристалле большого числа единичных
структур (до 150).
43
44.
Особенности СВЧ-транзисторов с точки зренияконструкции выводов эмиттера, коллектора и базы
состоят в том, что выводы делают в виде коротких
полосок, удобных для сочленения с микрополосковыми
линиями передачи. Такая геометрия выводов наиболее
полно отвечает требованиям уменьшения их
«паразитных» емкостеий и индуктивностеий .
44
45. Расчет граничной частоты биполярного транзистора
РАСЧЕТ ГРАНИЧНОЙ ЧАСТОТЫБИПОЛЯРНОГО ТРАНЗИСТОРА
f гр
1
2 эк
где τэк - время задержки сигнала в транзисторе
эк э к б эб бк
τэ – время накопления неосновных носителеий в эмиттере,
τк – время задержки носителеий в обедненноий области
коллектора,
τб – время пролета неосновных носителеий через базу,
τэб – время заряда емкости эмиттерного перехода,
τбк – время заряда емкости коллекторного перехода
45
46. Время накопления неосновных носителей в эмиттере
ВРЕМЯ НАКОПЛЕНИЯ НЕОСНОВНЫХНОСИТЕЛЕЙ В ЭМИТТЕРЕ
2
lэб
э
2 D рэ 0
где l эб - расстояние от поверхности транзистора до
металлургическоий границы эмиттерного перехода,
Dрэ - коэффициент диффузии дырок в эмиттере,
β0 - коэффициент усиления по постоянному току
46
47. время переноса носителей в обедненной области коллектора
ВРЕМЯ ПЕРЕНОСА НОСИТЕЛЕЙ ВОБЕДНЕННОЙ ОБЛАСТИ КОЛЛЕКТОРА
lк
к
2v s
где lк – ширина обедненноий области коллектора
vs - скорость насыщения носителеий
47
48. время пролета неосновных носителей через базу
ВРЕМЯ ПРОЛЕТА НЕОСНОВНЫХ НОСИТЕЛЕЙЧЕРЕЗ БАЗУ
2
lб
б
nDпб
где lб – толщина базы,
n – коэффициент, зависящиий от распределения
примесеий в базе,
Dпб - коэффициент диффузии электронов в базе
48
49. время заряда емкости эмиттерного перехода
ВРЕМЯ ЗАРЯДА ЕМКОСТИ ЭМИТТЕРНОГОПЕРЕХОДА
эб R СЭ
где Rβ – сопротивление рекомбинации
T
R
Iэ
kT
T
e
49
50. время заряда емкости коллекторного перехода
ВРЕМЯ ЗАРЯДА ЕМКОСТИ КОЛЛЕКТОРНОГОПЕРЕХОДА
бк Ск (rэ r к )
где rэ, rк – сопротивления эмиттерноий и
коллекторноий областеий ;
Ск – емкость коллектора
50
51. Требования к параметрам транзистора
ТРЕБОВАНИЯ К ПАРАМЕТРАМТРАНЗИСТОРА
1.
Уменьшение lк ;
2.
Уменьшение lб;
3.
Уменьшение Cэ и Cк;
4.
Уменьшение rк
Примеры противоречивых требований
Требования 1 и 3 связаны с увеличением граничноий
частоты. Однако уменьшение lк приводит к росту
Cк
Требование 3, связанное с уменьшением Cэ ,
находится в противоречии с требованием
увеличения мощности транзистора, согласно
которому
площадь
эмиттера
требуется
увеличивать.
51
52. Структура полевого транзистора
СТРУКТУРА ПОЛЕВОГО ТРАНЗИСТОРАИ
5
З
l1
l3 l2
к
4
3
п+
С
W
п
п+
6
3
7
2
1
1 - высокоомная подложка, выполненной из GаAs,
2 -проводящий канал n-типа подсоединен к выводам истока И и стока C.
3- невыпрямляющие контакты, образованные n+- областями и контактами 4 и 6,
4 и 6 - металлические электроды
5 - затвор, у которого на границе с n-каналом образован барьер Шоттки.
7 – обедненная область
При подаче напряжения между стоком и истоком через n-канал протекает электронный ток.. Затвор 5
используется в ПT для управления током транзистора с помощью внешнего сигнала. При протекании
тока через канал возникает падение напряжения на распределенном сопротивлении канала вдоль его
длины. Область обедненного слоя может расширяться до высокоомной подложки 1 и перекрывать
проводящий канал. При этом ток транзистора в цепи исток - сток практически перестает зависеть от
напряжения стока.
52
53. Расчет граничной частоты полевого транзистора
РАСЧЕТ ГРАНИЧНОЙ ЧАСТОТЫ ПОЛЕВОГОТРАНЗИСТОРА
1
f гр
2 пр
где τпр – это время пролета носителеий через канал
пр
L
нас
где L – длина канала: L = l1 + l2 + l3
L = 1,2l3
53
54.
Для получения высокочастотных приборов необходимо:обеспечить малую длину канала
большую дреий фовую скорость насыщения.
Из этих условиий вытекает ряд требований к материалу
транзистора и к размерам его электродов. В качестве материала
канала в ПT используют преимущественно арсенид галлия GаAs.
Это объясняется тем, что подвижность электронов в этом
материале в несколько раз выше, чем в кремнии, поэтому
различаются и скорости насыщения, которые составляют 2 107см/с
для GaAs и 0,8 107см/с для Si. Имеются данные о создании ПT на
основе фосфида индия InP, в котором дреий фовая скорость
носителеий в 1,5 раза выше, чем в арсениде галлия.
Однако, сокращая L, нужно одновременно уменьшать и глубину
канала wк так, чтобы выполнялось условие L/wк > 1, в противном
случае затвор транзистора не сможет эффективно контролировать
движение электронов в канале. Для уменьшения wк используют
более высокиий уровень легирования канала, не превышающиий ,
однако, 5·1017см-3 (во избежание пробоя). При таком уровне леги 54
рования минимальная длина затвора ограничена значением около
0,1 мкм, что соответствует граничноий частоте fгр=100 ГГц.
55. Гетеропереходы
ГЕТЕРОПЕРЕХОДЫ55
56. Понятие о гетеропереходе
ПОНЯТИЕ О ГЕТЕРОПЕРЕХОДЕГетеропереход образуется при контакте двух
полупроводниковых кристаллов, имеющих
разную ширину запрещенноий зоны, одинаковую
кристаллическую структуру и равные
постоянные кристаллическоий решетки.
56
57. Зонная диаграмма гетероперехода
ЗОННАЯ ДИАГРАММАГЕТЕРОПЕРЕХОДА
Особенности данноий диаграммы состоят в
наличии скачков ΔЕс, ΔEv
57
58. Явление сверхинжекции
ЯВЛЕНИЕ СВЕРХИНЖЕКЦИИСкачки дна зоны проводимости способствуют тому, что электронный
квазиуровень (EFn, EFp) располагается выше уровня EC1
58
59. Двумерный электронный газ
ДВУМЕРНЫЙ ЭЛЕКТРОННЫЙ ГАЗОбразуется потенциальная яма, куда «сваливаются»
электроны
59
60. Структура биполярного транзистора на гетеропереходе (HBT)
СТРУКТУРА БИПОЛЯРНОГО ТРАНЗИСТОРА НАГЕТЕРОПЕРЕХОДЕ (HBT)
60
61. СТРУКТУРА ПОЛЕВОГО ТРАНЗИСТОРА НА ГЕТЕРОПЕРЕХОДЕ (HEMT)
6162. Эквивалентная схема биполярного транзистора СВЧ диапазона
ЭКВИВАЛЕНТНАЯ СХЕМА БИПОЛЯРНОГОТРАНЗИСТОРА СВЧ ДИАПАЗОНА
62
63. Эквивалентная схема полевого транзистора СВЧ диапазона
ЭКВИВАЛЕНТНАЯ СХЕМА ПОЛЕВОГОТРАНЗИСТОРА СВЧ ДИАПАЗОНА
63
64. К определению S-параметров транзисторов
К ОПРЕДЕЛЕНИЮ SПАРАМЕТРОВТРАНЗИСТОРОВ
64
65. Схема линейного усилителя
СХЕМА ЛИНЕЙНОГО УСИЛИТЕЛЯU1- = S11 U1+ + S12 U2+ ,
U2- = S21 U1+ + S22 U2+ ,
65
66. S – параметры
S – ПАРАМЕТРЫS11 = U-1 / U+1 ,
U +2 =0;
S22 = U-2 / U +2 ,
U +1 =0;
S12 = U-1 / U +2, U +1 =0;
S21 = U-2 / U +1 , U +2 =0
66